| 发明名称 | 透光性电磁波屏蔽材料及其制造方法以及具有贵金属的极薄的膜的微粒 | ||
| 摘要 | 本发明提供可迅速地制造透光性、电磁波屏蔽性、外观性及识别性优异，具有高精度网状图案的透光性电磁波屏蔽材料的方法。该透光性电磁波屏蔽材料的制造方法包含以下工序：通过将含有表面具有贵金属的极薄的膜的微粒的化学镀预处理剂以网状印刷于透明基板上，在透明基板上形成网状的前处理层的工序；以及利用化学镀处理在前处理层上形成网状的金属导电层的工序。 | ||
| 申请公布号 | CN101622919A | 申请公布日期 | 2010.01.06 |
| 申请号 | CN200880007033.1 | 申请日期 | 2008.03.05 |
| 申请人 | 株式会社普利司通 | 发明人 | 小坪秀史;船木竜也;笹木清美;半泽健太郎 |
| 分类号 | H05K9/00(2006.01)I;B32B15/08(2006.01)I;E04B1/92(2006.01)I;G09F9/00(2006.01)I | 主分类号 | H05K9/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京林达刘知识产权代理事务所 | 代理人 | 刘新宇;张会华 |
| 主权项 | 1.一种透光性电磁波屏蔽材料的制造方法，其包含以下工序：通过将含有微粒的化学镀预处理剂以网状印刷于透明基板上，在透明基板上形成网状的前处理层的工序，所述微粒的表面具有贵金属的极薄的膜；以及利用化学镀处理在前处理层上形成网状的金属导电层的工序。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||