等离子体处理装置

摘要

本发明提供一种等离子体处理装置，其能够防止排气气流集中于形成在处理室中的多个排气口，能够使处理室内的排气气流均匀。该等离子体处理装置设置有将处理室(200)内的等离子体生成区域和对处理室进行排气的排气通路隔开的隔挡部(350)，挡板部由以包围载置台(300)的周围的方式隔开距离配置的上游侧挡板和下游侧挡板构成，在各挡板中分别形成有连通等离子体生成区域和排气通路的多个开口，下游侧挡板(360)的开口为越远离各排气口(208)宽度越大的缝隙状开口(364)。

主权项

1.一种等离子体处理装置，其特征在于，包括：对被处理基板实施等离子体处理的处理室；向所述处理室供给用于生成等离子体的处理气体的处理气体供给部；设置在所述处理室内，载置所述被处理基板的载置台；将所述处理室内的等离子体生成区域和对所述处理室内进行排气的排气通路隔开的隔挡部；和在所述排气通路中位于所述隔挡部的下游侧，配置在所述载置台的周围的多个排气口，其中所述隔挡部由以包围所述载置台的周围的方式隔开距离配置的上游侧挡板和配置在该上游侧挡板的下游侧的下游侧挡板构成，在所述各个挡板中分别形成有连通所述等离子体生成区域和所述排气通路的多个开口，至少一个挡板的各个开口根据所述各排气口的配置位置改变数量和形状中的任意一种或使两者均改变。