发明名称 |
于高数值孔径系统中之静态及动态径向横向电场偏光器 |
摘要 |
一种径向横向电场偏光器包含一具有一第一折射率之第一层材料、一具有一第二折射率之第二层材料及在方位角上周期性隔开并放置于该第一层及该第二层之间之复数个细长元件。该复数个细长元件与放射之电磁波互动以传送放射之电磁波之横向电偏光。该偏光器元件可使用于例如一微影投射装置以增加影像解析度。一元件制造方法包含偏光一横向电偏光中之一放射束。 |
申请公布号 |
TWI319124 |
申请公布日期 |
2010.01.01 |
申请号 |
TW093106253 |
申请日期 |
2004.03.09 |
申请人 |
ASML公司 |
发明人 |
亚力山德 斯特杰;凯文 库明;马歇尔 玛堤斯 赛多尔 玛里 戴齐;多尼斯 乔治 夫拉格骆 |
分类号 |
G03F7/20 |
主分类号 |
G03F7/20 |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 |
主权项 |
一种径向横向电场偏光器元件,包括:一具有一第一折射率之第一层材料;一具有一第二折射率之第二层材料;以及方位角上周期性隔开并置于该第一层及该第二层之间之复数个细长元件,其中该复数个细长元件与放射之电磁波互动以传送放射之电磁波之横向电偏光。 |
地址 |
荷兰 |