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发明名称 Halogen-Sauerstoff-Säuren enthaltende Zusammensetzung für die Reinigung von mikroelektronischen Substraten
摘要
申请公布号 DE602005017684(D1) 申请公布日期 2009.12.31
申请号 DE200560017684T 申请日期 2005.01.07
申请人 MALLINCKRODT BAKER INC. 发明人 HSU, CHIEN-PIN SHERMAN
分类号 G03F7/32;G03F7/42;B08B3/14;C11D1/00;C11D3/395;C11D7/08;C11D7/32;C11D7/50;C11D7/54;C11D11/00;H01L21/027;H01L21/304 主分类号 G03F7/32
代理机构 代理人
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