| 发明名称 |
Activation resistive layer |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
PL204204(B1) |
申请公布日期 |
2009.12.31 |
| 申请号 |
PL20020357755 |
申请日期 |
2002.12.13 |
| 申请人 |
INSTYTUT TECHNOLOGII ELEKTRONOWEJ |
发明人 |
&LSTROK,UKASIK ANDRZEJ |
| 分类号 |
H01L21/00;H01B1/00;H01B1/20;H01C8/00;H01L21/28;H01L21/44 |
主分类号 |
H01L21/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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