发明名称 |
膜图案形成方法、及其应用 |
摘要 |
本发明提供可以抑制液状材料从膜图案形成区域流出、或向区域外润湿展开而形成规定图案形状和厚度的膜图案的膜图案形成方法、膜图案、抗蚀剂膜、和绝缘膜、以及电路基板、半导体装置、半导体装置、表面弹性波设备、表面弹性波振荡装置、电光学装置和电子机器。对基板面进行疏液化处理,在形成抗蚀剂膜的区域的周缘部配置液状材料的液滴,形成周缘带膜。接着对基板面进行亲液化处理,在由周缘带膜包围的区域内填充液状材料形成膜,由周缘带膜和膜形成抗蚀剂膜。绝缘膜也同样形成。电路基板、半导体装置、表面弹性波设备,具备由上述方法形成的膜,电光学装置具备该半导体装置,电子机器具备上述电光学装置、电路基板、表面弹性波振荡装置。 |
申请公布号 |
CN100576975C |
申请公布日期 |
2009.12.30 |
申请号 |
CN200610006991.X |
申请日期 |
2006.01.26 |
申请人 |
精工爱普生株式会社 |
发明人 |
丰田直之 |
分类号 |
H05K3/12(2006.01)I;H05K3/00(2006.01)I;B41J2/005(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I;H01L27/32(2006.01)I;H05B33/10(2006.01)I |
主分类号 |
H05K3/12(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 |
代理人 |
汪惠民 |
主权项 |
1、一种膜图案形成方法,在基板上形成规定形状的膜图案,其特征在于,具有:疏液化工序,其将上述基板的面处理为具有疏液性;周缘形成工序,其在形成上述膜图案的第1区域的周缘区域,配置含有构成上述膜图案的材料的液状体的液滴,形成由所配置的上述液滴构成的周缘带,形成该周缘带干燥或者硬化后的周缘带膜;亲液化工序,其将上述基板的面处理为具有亲液性;和填充工序,其在由上述周缘带膜包围的第2区域配置上述液滴,在上述第2区域填充上述液状体。 |
地址 |
日本东京 |