在镀金属层的高分子材料膜上进行漫反射处理的方法

摘要

本发明公开了一种在镀金属层的高分子材料膜上进行漫反射处理的方法，步骤为：①确定光栅点阵的分辨率；②确定光栅像素的光栅间距；③按随机取向规则确定光栅像素的取向；④根据上述确定的光栅点阵的参数，利用全息点阵光刻机在光刻胶版上刻蚀出随机光栅点阵；⑤将刻有随机光栅点阵的光刻胶版制成模压版，将随机光栅点阵模压在镀金属层的高分子材料膜上。在随机光栅点阵(漫反射)区域上制作条形码或与激光全息防伪标识共同使用，可实现综合防伪。在该方法形成的漫反射区域内制作的条形码能采用通用条码扫描器正确读取条码信息，在实际应用中有着重要的意义。本发明方法克服了在镀金属塑料膜上以及类似具有镜面反射特性的载体上无法直接使用条形码的问题。

主权项

1、一种在镀金属层的高分子材料膜上进行漫反射处理的方法，其步骤包括：(1)确定光栅点阵的分辨率；(2)确定光栅像素的光栅间距；(3)按随机取向规则确定光栅像素的取向；(4)根据上述确定的光栅点阵的参数，利用全息点阵光刻机在光刻胶版上刻蚀出随机光栅点阵；(5)将刻有随机光栅点阵的光刻胶版制成模压版，将随机光栅点阵模压在镀金属层的高分子材料膜上。