发明名称 具有超高强度LED光源的无掩膜直写光刻机
摘要 本发明涉及在晶片、印刷电路板等衬底材料上印刷构图的具有超高强度LED光源的无掩膜直写光刻机。解决了单一的发光二极管发光量不能满足低倍率大视场面积无掩模光刻机照明要求的问题。该机光源包括两个以上的发光二极管;每一个发光二极管分别对应一个聚光透镜,其后部分别连接着耦合光纤,再连接着变芯光纤,变芯光纤对应着相干片。采用多粒发光二极管作为直写光刻机光源,多粒发光二极管同时发光,用多束导光光纤分别进行光能采集通过空间排列耦合,提高LED光强度。
申请公布号 CN100576089C 申请公布日期 2009.12.30
申请号 CN200810020788.7 申请日期 2008.02.27
申请人 芯硕半导体(中国)有限公司 发明人 张东涛
分类号 G03F7/20(2006.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 合肥金安专利事务所 代理人 金惠贞
主权项 1、具有LED光源的无掩膜直写光刻机,包括光源、孔径光栏、中继物镜、反射镜和数字掩膜板、投影物镜和晶圆表面;所述光源为发光二极管光源,光源、孔径光栏和中继物镜位于同一轴线上,且与反射镜对应,反射镜与其一侧上方的数字掩模板对应,数字掩模板通过其下方的投影物镜与晶圆表面对应,其特征在于:所述光源包括两个以上的发光二极管;每一个发光二极管分别对应一个聚光透镜,每个聚光透镜后部分别连接着耦合光纤,耦合光纤连接着变芯光纤,变芯光纤对应着相干片,相干片对应着孔径光栏。
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