发明名称 |
硅基液晶微显示器及其形成方法 |
摘要 |
一种硅基液晶微显示器的形成方法,在硅衬底上形成像素开关电路层;在像素开关电路层上依次形成光屏蔽层和金属间绝缘层;还包括在所述绝缘层上形成金属反射层;蚀刻金属反射层,形成分立的正六边形微反射镜阵列。相应地,本发明提供一种硅基液晶微显示器。本发明的微反射镜采用正六边形形状,由于相邻微反射镜为三个,容易形成单片式结构,同时由于正六边的内角为120°,更为接近圆,相邻微反射镜由于干涉效应造成的相互影响更小,从而减小了光串扰现象。 |
申请公布号 |
CN100576044C |
申请公布日期 |
2009.12.30 |
申请号 |
CN200610148821.5 |
申请日期 |
2006.12.28 |
申请人 |
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
发明人 |
黄河;高大为;蒲贤勇 |
分类号 |
G02F1/1362(2006.01)I;G02F1/136(2006.01)I;H01L21/822(2006.01)I;H01L27/04(2006.01)I |
主分类号 |
G02F1/1362(2006.01)I |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 |
代理人 |
逯长明 |
主权项 |
1.一种硅基液晶微显示器的形成方法,所述硅基液晶微显示器为单片式结构,在硅衬底上形成像素开关电路层;在像素开关电路层上依次形成光屏蔽层和金属间绝缘层,其特征在于,还包括在所述金属间绝缘层上形成金属反射层;蚀刻金属反射层,形成分立的正六边形微反射镜阵列。 |
地址 |
201203上海市浦东新区张江路18号 |