发明名称 |
包含基于掺杂了三价元素的二氧化硅的微孔二氧化硅层的气体分离膜 |
摘要 |
本发明涉及气体分离膜的制备方法,包括二氧化硅溶胶薄膜在多孔载体上的沉积,然后对如此沉积的薄膜进行热处理,其中沉积的二氧化硅溶胶是在掺杂量的三价元素氧化物的前体的存在下,对硅醇盐进行水解而制得的,所述三价元素尤其为硼或铝。本发明还涉及根据此方法制备的膜及其用途,特别是用于在高温下分离氦气或氢气,尤其是用于除去氦气流中的杂质。 |
申请公布号 |
CN101616726A |
申请公布日期 |
2009.12.30 |
申请号 |
CN200680052464.0 |
申请日期 |
2006.12.22 |
申请人 |
阿海珐核能公司;国家科研中心 |
发明人 |
A·朱尔比;D·考特;B·萨拉;C·伯尔博尤 |
分类号 |
B01D71/02(2006.01)I;B01D53/22(2006.01)I |
主分类号 |
B01D71/02(2006.01)I |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
张力更 |
主权项 |
1.气体分离膜的制备方法,包括二氧化硅溶胶薄膜在多孔载体上的沉积,然后对如此沉积的膜进行热处理,其特征在于,以薄膜的形式沉积在多孔载体上的二氧化硅溶胶是在掺杂量的三价元素氧化物的前体的存在下,对硅醇盐进行水解而制得的,其中所述三价元素为硼。 |
地址 |
法国库伯瓦 |