| 发明名称 | 对阳光照射具有改进的稳定性的层构造 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种组合物，所述组合物不含氢醌而含至少一种含(3，4-二烷氧基噻吩)单体单元的聚合物(其中两个烷氧基可相同或不同或一起代表任选取代的氧-亚烷基-氧桥)、聚阴离子、至少一种不含磺基而含至少两个羟基的芳族化合物及至少一种含多羟基-和/或羧基或酰胺或内酰胺基团的脂族化合物和/或至少一种介电常数≥15的质子惰性化合物；和一种载体上的层构造，所述层构造包含不含氢醌而含至少一种包含任选取代的(3，4-二烷氧基噻吩)单体单元的聚合物(其中两个烷氧基可相同或不同或一起代表任选取代的氧-亚烷基-氧桥)、聚阴离子、至少一种不含磺基而含至少两个羟基的芳族化合物及至少一种含多羟基-和/或羧基或酰胺或内酰胺基团的脂族化合物和/或至少一种介电常数≥15的质子惰性化合物的层。 | ||
| 申请公布号 | CN101616976A | 申请公布日期 | 2009.12.30 |
| 申请号 | CN200780049404.8 | 申请日期 | 2007.10.31 |
| 申请人 | 爱克发-格法特公司 | 发明人 | F·劳维特;L·博伦斯 |
| 分类号 | C08K5/13(2006.01)I;C08L65/00(2006.01)I | 主分类号 | C08K5/13(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 林毅斌;范 赤 |
| 主权项 | 1.一种组合物，所述组合物不含氢醌而含至少一种包含(3，4-二烷氧基噻吩)单体单元的聚合物、聚阴离子、至少一种不含磺基而含至少两个羟基的芳族化合物及至少一种含多羟基-和/或羧基或酰胺或内酰胺基团的脂族化合物和/或至少一种介电常数≥15的质子惰性化合物，其中(3，4-二烷氧基噻吩)单体单元中的两个烷氧基可相同或不同或一起代表任选取代的氧-亚烷基-氧桥。 | ||
| 地址 | 比利时莫策尔 | ||