发明名称 |
导电图案形成装置 |
摘要 |
本发明提供一种导电图案形成装置,这种工艺配置能够将由于显影剂、清洗液那样的液体材料的逆流、漏液引起的图案或装置内的污染降低成最小限度。在该导电图案形成装置中,使用电子照相方式的导电图案形成装置中的显影/清洗装置配置在比感光体的中心更靠下部的区域,溶剂去除工序配置在感光体沿着上升方向旋转的区域,转印液涂敷/静电转印工序设置在比感光体的中心更靠上部且在感光体沿着下降方向旋转的区域。 |
申请公布号 |
CN101614988A |
申请公布日期 |
2009.12.30 |
申请号 |
CN200810128900.9 |
申请日期 |
2008.06.24 |
申请人 |
株式会社日立制作所 |
发明人 |
佐野雄一朗;宫坂徹 |
分类号 |
G03G15/16(2006.01)I;G03G21/00(2006.01)I;H05K3/10(2006.01)I |
主分类号 |
G03G15/16(2006.01)I |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
郭 放 |
主权项 |
1.一种导电图案形成装置,包括:感光体,在其表面具备导电性薄膜体;显影装置,在上述感光体上形成静电潜像图案,并利用导电性粒子分散液来使上述静电潜像图案显影;溶剂去除单元,从显影在上述感光体上的导电性图案前驱体去除液膜;转印液涂敷单元,在去除了上述液膜的导电图案前驱体上再次形成转印液膜;以及转印单元,将再次赋予了上述液膜的导电图案前驱体转印到作为对象的基板上,其特征在于,上述显影装置配置在比上述感光体中心更靠下侧,上述溶剂去除单元配置在上述感光体的旋转为上升方向的区域,上述转印液涂敷单元以及转印单元配置在比上述感光体中心更靠上侧且在上述感光体的旋转为下降方向的区域。 |
地址 |
日本东京 |