| 发明名称 | 一种光刻胶清洗剂 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种光刻胶清洗剂，其含有季铵氢氧化物、水、芳基醇、二甲基亚砜和聚丙烯酸类缓蚀剂。本发明的光刻胶清洗剂可以除去金属、金属合金或电介质基材上的光刻胶(尤其是厚膜负性光刻胶)和其它刻蚀残留物，同时对铝和铜等金属以及二氧化硅等非金属材料具有极弱的腐蚀性，环境友好且可在较大的温度范围内使用。 | ||
| 申请公布号 | CN101614971A | 申请公布日期 | 2009.12.30 |
| 申请号 | CN200810039757.6 | 申请日期 | 2008.06.27 |
| 申请人 | 安集微电子（上海）有限公司 | 发明人 | 史永涛;彭洪修;曹惠英 |
| 分类号 | G03F7/42(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/42(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海翰鸿律师事务所 | 代理人 | 李佳铭 |
| 主权项 | 1、一种光刻胶清洗剂，其特征在于：其含有季铵氢氧化物、水、芳基醇、二甲基亚砜和聚丙烯酸类缓蚀剂。 | ||
| 地址 | 201203上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室 | ||