发明名称 | 用于太阳能电池制造的沉积半导体薄层的技术和装置 | ||
摘要 | 本发明以不同实施方式有利地提供低成本沉积技术以形成高质量、致密、良好粘附的并具有宏观尺度和微观尺度组成均匀的IBIIIAVIA化合物薄膜。在一个实施方式中,提供在基底上生长IBIIIAVIA族半导体层的方法。该方法包括在基底上沉积IB族材料薄膜和至少一层IIIA族材料,相互混合IB族材料和至少一层IIIA族材料以形成相互混合的层,在相互混合的层上形成包括至少一层IIIA族材料亚层和IB族材料亚层的金属薄膜。还描述了其它实施方式。 | ||
申请公布号 | CN100573812C | 申请公布日期 | 2009.12.23 |
申请号 | CN200580014108.5 | 申请日期 | 2005.03.15 |
申请人 | 索罗能源公司 | 发明人 | B·M·巴索 |
分类号 | H01L21/00(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/00(2006.01)I |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 吴亦华 |
主权项 | 1.在基底上生长IBIIIAVIA族半导体层的方法,包括;在基底上沉积IB族材料薄膜和至少一层IIIA族材料;相互混合IB族材料薄膜和至少一层IIIA族材料以形成相互混合的层;和在相互混合的层上形成包括IIIA族材料亚层与IB族材料亚层中的至少一层的金属薄膜;和将相互混合的层和金属薄膜与VIA族材料反应从而生长IBIIIAVIA族半导体层。 | ||
地址 | 美国加利福尼亚 |