| 发明名称 | 曝光装置及图案形成方法 | ||
| 摘要 | 一种曝光装置及图案形成方法，能够得到优良的由平板印刷制造的抗蚀膜，尤其是由液体浸泡平板印刷制造的抗蚀膜的形状。曝光装置，包括用洗净液(25)洗净形成在晶片(20)上的抗蚀膜表面的洗净部(30)，和在抗蚀膜和投影透镜(44)之间填充液体浸泡用液体(26)进行图案曝光的曝光部(40)。 | ||
| 申请公布号 | CN100573331C | 申请公布日期 | 2009.12.23 |
| 申请号 | CN200510074297.7 | 申请日期 | 2005.06.02 |
| 申请人 | 松下电器产业株式会社 | 发明人 | 远藤政孝;笹子胜 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 汪惠民 |
| 主权项 | 1.一种图案形成方法，其特征为，包括：在基板上形成抗蚀膜的工序；溶解形成的所述抗蚀膜的表面的工序；对表面溶解了的上述抗蚀膜有选择地照射曝光光线进行图案曝光的工序；对进行了图案曝光后的上述抗蚀膜进行显像形成抗蚀图案的工序。 | ||
| 地址 | 日本大阪府 | ||