发明名称 | 等离子体显屏的多层烧成装置 | ||
摘要 | 本发明以提供在最小限度地控制工厂空间的增大的同时,可提高生产率的PDP烧成装置为目的。是通过在运送基板(4)的同时进行热处理的烧成炉(2)内,设置运送基板(4)的复数层运送装置(6),并在邻接于上下方向的运送装置(6)之间用隔热板(7)隔断,使之形成多层炉的同时,在隔热板(7)上配设适当的加热装置(9),并且在上述多层炉的各个炉内按着上述运送装置进行方向顺序形成加热区、控制区以及冷却区,进行等离子体显屏的多层烧成的装置。 | ||
申请公布号 | CN100573004C | 申请公布日期 | 2009.12.23 |
申请号 | CN200480034853.1 | 申请日期 | 2004.11.25 |
申请人 | 松下电器产业株式会社;日本碍子株式会社 | 发明人 | 森田真登;铃木雅教;辻弘恭;青木道郎;安达博人 |
分类号 | F27B9/24(2006.01)I | 主分类号 | F27B9/24(2006.01)I |
代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 汪惠民 |
主权项 | 1.一种等离子体显屏的多层烧成装置,是具有运送基板的同时,热处理上述基板的烧成炉的等离子体显屏的烧成装置,其特征在于;在上述烧成炉内设置运送基板的复数层运送装置,并在邻接于上下方向的运送装置之间用隔热板隔断,由此形成多层的热处理室,并且上述多层的各热处理室按着上述运送装置进行方向顺序具有加热区、控制区以及冷却区,所述冷却区在其上面和下面中的一个面上具有加热装置,在另一个面上具有冷却装置。 | ||
地址 | 日本大阪府 |