发明名称 丝网印刷复合纳米SiC薄膜的制备方法及其场致发射发光管
摘要 本发明涉及毫瓦级场致发射冷光源,尤其是丝网印刷复合纳米SiC薄膜的制备方法及其场致发射发光管,其特点是,包括两块平行的ITO导电玻璃(1),该两片ITO导电玻璃(1)之间周围密封并抽真空,在两块ITO导电玻璃(1)之间还安装有起支撑作用的绝缘柱(4),在其中一块ITO导电玻璃(1)内表面的ITO层上印刷荧光粉膜(3),而在另一块ITO导电玻璃(1)内表面的ITO层上印刷SiC薄膜(5);两块ITO导电玻璃(1)的ITO层分别通过电极引出发光管外。本发明方法可制备大面积均匀的纳米SiC薄膜,还可使用上述复合纳米SiC薄膜制作成稳定性好、发光效率高的发光管。
申请公布号 CN101607693A 申请公布日期 2009.12.23
申请号 CN200910117367.0 申请日期 2009.07.20
申请人 北方民族大学 发明人 张秀霞
分类号 B82B3/00(2006.01)I;H01J9/02(2006.01)I;H01J31/12(2006.01)I;H01J29/04(2006.01)I;H01J63/06(2006.01)I 主分类号 B82B3/00(2006.01)I
代理机构 宁夏专利服务中心 代理人 赵明辉
主权项 1、一种丝网印刷复合纳米SiC薄膜的制备方法,其特征在于,包括下列步骤:a、纳米SiC、纳米石墨和乙基纤维素原料进行研磨分别将纳米石墨、纳米SiC、和乙基纤维素研磨至粒度为10-600纳米作为原料备用;b、制备纳米复合SiC浆料将纳米石墨、纳米SiC、和乙基纤维素按1-2∶4-5∶4-6质量比例混合作为溶质,按质量比1-3∶9将溶质加入溶剂中,超声分散5-7小时或至纳米石墨、纳米SiC、和乙基纤维素在溶剂中充分分散,然后加热到370-400K温度充分搅拌,然后再用400-450目数的筛过筛,过筛时在机械外力作用下使纳米SiC和纳米石墨均匀分布,自然冷却至室温待用;c、丝网印刷制备复合纳米SiC薄膜选择目数为300-400目数的金属丝网或涤纶丝网,将上一步骤得到的纳米复合SiC浆料通过丝网印刷机进行丝网印刷在ITO导电玻璃上;d、印刷后的热烧结处理升温至350-380K后保持20-25分钟,然后再升温至423-453K后保持60-75分钟,然后再升温至633-653K后保持70-80分钟,自然冷却待用;e、热烧结后的退火处理置于退火炉中,在温度为580K-600K、时间为10-15min条件下进行退火即可。
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