发明名称 | 利用镭射形成金属薄膜的装置及方法 | ||
摘要 | 本发明涉及一种形成金属薄膜的装置及方法,其中,当液晶显示器装置的金属图案为开路时,利用镭射在上部绝缘层中形成孔和在孔之间形成金属薄膜,进而连接所述开路金属图案的非连接部位。当沉积在基板上的金属图案(41)为开路时,所述金属薄膜形成方法连接开路金属图案的非连接部位。通过照射第一镭射清除金属图案上的绝缘层,可在其上沉积薄膜的第一和第二连接孔(44)形成于金属图案中。通过照射第二镭射,以金属薄膜(46)填充连接孔。通过照射第二镭射在孔之间形成金属薄膜。 | ||
申请公布号 | CN101611339A | 申请公布日期 | 2009.12.23 |
申请号 | CN200780048403.1 | 申请日期 | 2007.12.24 |
申请人 | 株式会社COWIN DST;金一镐 | 发明人 | 金一镐 |
分类号 | G02F1/13(2006.01)I | 主分类号 | G02F1/13(2006.01)I |
代理机构 | 北京路浩知识产权代理有限公司 | 代理人 | 谢顺星 |
主权项 | 1、一种金属薄膜形成装置,其特征在于,包括:镭射振荡器;光束形成部件,使上述镭射振荡器发出的镭射光束平坦,根据加工目标物调整照射光束的形状和大小;腔室,与上述加工目标物隔着一定间隔,利用金属气体和惰性气体混合后的气体在加工目标物上形成金属薄膜;气体供应部,提供上述金属气体和惰性气体混合后的气体;排气部,形成薄膜后排出残留气体。 | ||
地址 | 韩国仁川广域市 |