显影处理方法和显影处理装置

摘要

本发明提供一种显影处理方法和显影处理装置。所述显影处理方法是使被旋转卡盘(40)水平保持的晶片(W)旋转并向该晶片表面供给显影液实施显影处理的显影处理方法，其中，在显影处理工序之前，进行预湿处理，在该预湿处理中，从位于旋转的衬底表面的中心附近的显影喷嘴(52)供给显影液(100)，同时从位于比显影喷嘴靠向晶片外周侧的位置的纯水喷嘴(53)供给作为第二液体的纯水(200)，由随着晶片的旋转而向衬底的外周侧流动的纯水形成壁(300)，利用该壁使显影液在衬底的旋转方向扩展。由此，能够改善疏水化后的衬底上的抗蚀剂膜表面的润湿性，有效地形成显影液膜，并且能够实现显影处理的稳定化。

主权项

1.一种显影处理方法，其为使被水平保持的衬底旋转并向该衬底表面供给显影液实施显影处理的显影处理方法，其特征在于：在所述显影处理工序之前，具备预湿工序，在该预湿工序中，从位于旋转的衬底表面的中心附近的第一喷嘴供给显影液，同时从位于比第一喷嘴靠向衬底外周侧的位置的第二喷嘴供给第二液体，由随着所述衬底的旋转而向衬底的外周侧流动的第二液体形成壁，利用该壁使显影液在衬底的旋转方向扩展。