发明名称 画素结构
摘要 一种画素结构,其包括一主动元件、一画素电极、一闸绝缘层、一保护层以及一垫层。主动元件系与扫描配线及资料配线电性连接,而画素电极系与主动元件电性连接。闸绝缘层系从主动元件延伸至画素电极下方,而保护层亦从主动元件延伸至画素电极下方,以覆盖住闸绝缘层。此外,垫层配置于保护层与闸绝缘层之间。而保护层与闸绝缘层中具有一沟渠,其位于扫描配线及/或资料配线与画素电极之间。垫层系位于沟渠之至少一侧,且垫层于朝向该沟渠侧具有一底切(undercut),且该底切仅位于画素区域的周围。
申请公布号 TWI318696 申请公布日期 2009.12.21
申请号 TW094100595 申请日期 2005.01.10
申请人 友达光电股份有限公司 发明人 来汉中
分类号 G02F1/133 主分类号 G02F1/133
代理机构 代理人 詹铭文;萧锡清
主权项 一种画素结构,适于与一扫描配线及一资料配线电性连接,该画素结构包括:一主动元件,与该扫描配线及该资料配线电性连接;一画素电极,与该主动元件电性连接;一闸绝缘层,从该主动元件延伸至该画素电极下方;一保护层,从该主动元件延伸至该画素电极下方,以覆盖住该闸绝缘层;以及一第一垫层,配置于该保护层与该闸绝缘层之间,该保护层与该闸绝缘层中具有一第一沟渠,且该第一沟渠系位于该扫描配线及/或该资料配线与该画素电极之间,其中该第一垫层系位于该第一沟渠之至少一侧,且该第一垫层于朝向该第一沟渠侧具有一第一底切,该第一底切仅位于该画素区域的周围。
地址 新竹市新竹科学工业园区力行二路1号