| 发明名称 |
正型光阻组成物之制造方法，正型光阻组成物及光阻图型之形成方法 |
| 摘要 |
本发明之正型光阻组成物之制造方法，为具有使经由酸之作用而增大硷可溶性之树脂成份(A)，与经由曝光产生酸之酸产生剂成份(B)溶解于有机溶剂(S)所得之正型光阻组成物，通过具备有耐隆制之膜的过滤器(f1)的步骤(I)，其中，前述树脂成份(A)为，使至少1种单体进行聚合制造之际，于酸之存在下，所制得之至少具有2种结构单位之共聚物。本发明为提供一种可形成同时具有低桥接(bridge)类缺陷(defect)与低再析出类缺陷之光阻图型的正型光阻组成物之制造方法，正型光阻组成物及光阻图型之形成方法。 |
| 申请公布号 |
TWI318724 |
申请公布日期 |
2009.12.21 |
| 申请号 |
TW095117706 |
申请日期 |
2006.05.18 |
| 申请人 |
东京应化工业股份有限公司 |
发明人 |
室井雅昭;厚地浩太;中村孝弘;山田雅和;最所贤介 |
| 分类号 |
G03F7/039;G03F7/027;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/039 |
| 代理机构 |
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代理人 |
林志刚 |
| 主权项 |
一种正型光阻组成物之制造方法，其为包含，使经由酸之作用而增大硷可溶性之树脂成份(A)，与经由曝光产生酸之酸产生剂成份(B)溶解于有机溶剂(S)所得之正型光阻组成物，通过具备有耐隆制之膜的过滤器(f1)的步骤(I)之方法，其特征为，前述树脂成份(A)为，使至少1种单体进行聚合制造之际，于酸之存在下，所制得之至少具有2种结构单位之共聚物其中，前述单体之至少1种为(α-低级烷基)丙烯酸酯，前述树脂成份(A)为，主链具有由(α-低级烷基)丙烯酸酯所衍生之结构单位(a1)。 |
| 地址 |
日本 |
