发明名称 浸泡式微影之基板置放
摘要 本发明揭示一种用于决定一基板之一中心与一吸盘内一凹陷之一中心间的一偏移之方法,该方法包括对该凹陷提供一测试基板,该测试基板具有小于该凹陷之一尺寸的一尺寸;测量该测试基板处于该凹陷内时的一对准标记之一位置;以及决定该基板之该中心与该凹陷之该中心距离该对准标记之该位置间的该偏移。
申请公布号 TWI318726 申请公布日期 2009.12.21
申请号 TW094141774 申请日期 2005.11.28
申请人 ASML公司 发明人 克利斯提安 亚历山大 赫葛丹;捷瑞特 乔汉斯 尼梅捷;密恩 卡帕露斯;配特洛丝 安东 葳莲 康妮拉 马莉雅 凡 伊婕克
分类号 G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 陈长文
主权项 一种用于决定一基板之一中心与在一吸盘中之一凹陷之一中心间的一偏移之方法,其包含:向该凹陷提供一测试基板,该测试基板具有小于该凹陷之一尺寸的一尺寸,其中向该凹陷提供该测试基板包括采用一基板处置器将该测试基板载入该凹陷内侧;在该测试基板处于该凹陷内时测量其一对准标记之一位置;决定该凹陷之该中心相对于该吸盘之一参考标记之一位置的一位置,或反之亦然;以及决定该测试基板之该中心相对于测试基板之该对准标记之该位置的一位置,或反之亦然;决定该基板之该中心与该凹陷之该中心距离该对准标记之该位置间的该偏移;以及校准该基板处置器,以考虑该偏移,其中校准该基板处置器包括藉由该基板处置器偏移基板之一定位,以修正该偏移,从而使由该基板处置器提供给该凹陷之一随后基板实质上置中处于该凹陷内侧。
地址 荷兰