METHOD FOR PRODUCING A TRANSPARENT AND CONDUCTIVE METAL OXIDE LAYER BY HIGHLY IONIZED PULSED MAGNETRON SPUTTERING

摘要

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer transparenten und leitfähigen Metalloxidschicht auf einem Substrat, bei dem zumindest ein Bestandteil der Metalloxidschicht durch hochionisierendes, gepulstes Hochleistungsmagnetronsputtern zerstäubt wird und auf dem Substrat kondensiert, wobei - die Pulse des Magnetrons eine Peakleistungsdichte aufweisen, die größer als 1,5 kW/cm2 ist, - die Pulse des Magnetrons eine Zeitdauer haben, die = 200 µs ist, sowie - der mittlere Stromflussdichteanstieg beim Zünden des Plasmas innerhalb eines Zeitintervall, das = 0.025 ms ist, mindestens 106 A/(ms cm2) beträgt.