发明名称 VERFAHREN ZUR HALBLEITERHERSTELLUNG MIT INTEGRATION EINER WEGWERF-ABSTANDSSCHICHT IN DIE ERHÖHTE SOURCE-/DRAIN-VERARBEITUNG
摘要
申请公布号 DE602005017490(D1) 申请公布日期 2009.12.17
申请号 DE200560017490T 申请日期 2005.04.13
申请人 FREESCALE SEMICONDUCTOR INC. 发明人 CHEN, JIAN;MORA, RODE R.;ROSSOW, MARC A.;SHIHO, YASUHITO
分类号 H01L21/336;H01L21/265;H01L29/78 主分类号 H01L21/336
代理机构 代理人
主权项
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