Verfahren und Vorrichtung zum Abscheiden einer Schicht auf einem Substrat mittels einer plasmagestützten chemischen Reaktion

摘要

Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zum plasmagestützten Abscheiden einer Schicht auf einem Substrat (12) mittels einer chemischen Reaktion innerhalb einer Vakuumkammer (11), wobei zumindest ein Ausgangsmaterial der chemischen Reaktion durch einen Einlass (13) in die Vakuumkammer (11) geführt wird und wobei der Einlass (13) zumindest im Bereich der Einlassöffnung (18) als Elektrode einer Gasentladung geschaltet wird.