发明名称 |
一种硅片清洗剂的制备方法 |
摘要 |
一种硅片清洗剂的制备方法,涉及光利用技术领域,先将硼酸钠和焦磷酸钾混合溶于水中,再将氢氧化钾溶于水中,再分别将椰子油烷基醇酰胺磷酸酯、辛烷基苯酚聚氧乙烯醚溶于水中,再将两溶液均匀混合,最后将以上三种溶液均匀混合,即成硅片清洗剂。本发明方法简单、易于生产,可有效降低生产成本,且生成的清洗剂原液可长期保存、运输,产品不含任何有机溶剂,无任何刺激性气味,工作液的pH值在9~11,并且清洗效率高,使用周期长,对硅片无腐蚀性等特点。本发明与传统的硅片清洗剂相比单位成本下降近60%。 |
申请公布号 |
CN101602984A |
申请公布日期 |
2009.12.16 |
申请号 |
CN200810123226.5 |
申请日期 |
2008.06.13 |
申请人 |
唐玉冰 |
发明人 |
唐玉冰 |
分类号 |
C11D1/83(2006.01)I;C11D3/06(2006.01)I |
主分类号 |
C11D1/83(2006.01)I |
代理机构 |
扬州市锦江专利事务所 |
代理人 |
江 平 |
主权项 |
1、一种硅片清洗剂的制备方法,其特征在于包括以下步骤:1)将硼酸钠和焦磷酸钾混合溶于水中;2)将氢氧化钾溶于水中;3)分别将椰子油烷基醇酰胺磷酸酯、辛烷基苯酚聚氧乙烯醚溶于水中,再将两溶液均匀混合;4)将以上三种溶液均匀混合,即成硅片清洗剂。 |
地址 |
211409江苏省仪征市大仪镇天扬路北133号仪征市得力表面处理剂厂 |