发明名称 一种硅片清洗剂的制备方法
摘要 一种硅片清洗剂的制备方法,涉及光利用技术领域,先将硼酸钠和焦磷酸钾混合溶于水中,再将氢氧化钾溶于水中,再分别将椰子油烷基醇酰胺磷酸酯、辛烷基苯酚聚氧乙烯醚溶于水中,再将两溶液均匀混合,最后将以上三种溶液均匀混合,即成硅片清洗剂。本发明方法简单、易于生产,可有效降低生产成本,且生成的清洗剂原液可长期保存、运输,产品不含任何有机溶剂,无任何刺激性气味,工作液的pH值在9~11,并且清洗效率高,使用周期长,对硅片无腐蚀性等特点。本发明与传统的硅片清洗剂相比单位成本下降近60%。
申请公布号 CN101602984A 申请公布日期 2009.12.16
申请号 CN200810123226.5 申请日期 2008.06.13
申请人 唐玉冰 发明人 唐玉冰
分类号 C11D1/83(2006.01)I;C11D3/06(2006.01)I 主分类号 C11D1/83(2006.01)I
代理机构 扬州市锦江专利事务所 代理人 江 平
主权项 1、一种硅片清洗剂的制备方法,其特征在于包括以下步骤:1)将硼酸钠和焦磷酸钾混合溶于水中;2)将氢氧化钾溶于水中;3)分别将椰子油烷基醇酰胺磷酸酯、辛烷基苯酚聚氧乙烯醚溶于水中,再将两溶液均匀混合;4)将以上三种溶液均匀混合,即成硅片清洗剂。
地址 211409江苏省仪征市大仪镇天扬路北133号仪征市得力表面处理剂厂