发明名称 |
成像装置与成像方法 |
摘要 |
一种成像装置,包括用于承载静电潜像的图像承载部件,所述图像承载部件包括基底、含有金属氧化物的中间层、包含电荷传输层和含有有机电荷产生材料的电荷产生层的感光层,用于在图像承载部件上形成静电潜像的成像装置,将该静电潜像用调色剂显影以形成可视图像的显影设备,用于将可视图像转印到记录介质的转印设备,将转印图像定影到该记录介质上的定影设备,以及包含提供波长小于500nm的光的光源用于通过被中间层的金属氧化物所吸收的光对图像承载部件照射以去除其上残余电荷的放电设备。 |
申请公布号 |
CN100570499C |
申请公布日期 |
2009.12.16 |
申请号 |
CN200610131012.3 |
申请日期 |
2006.12.15 |
申请人 |
株式会社理光 |
发明人 |
新美达也 |
分类号 |
G03G15/00(2006.01)I;G03G15/02(2006.01)I;G03G5/06(2006.01)I;G03G13/00(2006.01)I |
主分类号 |
G03G15/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 |
代理人 |
宋 莉 |
主权项 |
1、一种成像装置,包括:构造成承载静电潜像的图像承载部件,其包括:基底、含有金属氧化物的中间层、含有电荷传输层和电荷产生层的感光层,所述电荷产生层含有有机电荷产生材料;构造成在图像承载部件上形成静电潜像的成像设备;构造成用调色剂显影静电潜像以形成可视图像的显影设备;构造成将该可视图像转印到记录介质上的转印设备;构造成将转印的图像定影到记录介质上的定影设备;和放电设备,该放电设备包括提供波长小于500nm的光的光源并且该放电设备被构造成通过用被中间层中的金属氧化物吸收的波长小于500nm的光照射图像承载部件对图像承载部件光学放电以去除其上残留的电荷。 |
地址 |
日本东京都 |