发明名称 一种金属膜及其制造方法
摘要 本发明公开了一种金属膜,由能够产生表面等离子谐振的金属材料制成;所述金属膜包括:上表面,所述上表面由缺陷和多个上表面周期结构组成,下表面,所述下表面包括平台和多个下表面周期结构,所述上表面和所述下表面之间的最大厚度为50~150nm。通过将本发明的金属膜制备在透明基片上作用于入射光场,或制备在单色光源的发光面上形成有源器件,入射光通过金属膜的上下表面的结构,可以得到一个空间局域的纳米尺度的光源,光斑尺寸超过衍射极限,光场强度大大高于入射光场强度,光场分布形成发散角小、旁瓣弱的纳米光柱,成为近场纳米光束。
申请公布号 CN100570756C 申请公布日期 2009.12.16
申请号 CN200710304747.6 申请日期 2007.12.29
申请人 清华大学 发明人 王佳;许吉英;王庆艳;郝凤欢;张书练
分类号 G12B21/06(2006.01)I 主分类号 G12B21/06(2006.01)I
代理机构 北京路浩知识产权代理有限公司 代理人 刘长威
主权项 1、一种金属膜,其特征在于,所述金属膜由能够产生表面等离子谐振的金属材料制成,包括:上表面,所述上表面由位于所述上表面中央的中央缺陷和以所述中央缺陷为中心,周期性排列的多个上表面周期结构,所述上表面周期结构由第一凹槽和第一凸起组成,所述中央缺陷和上表面周期结构之间包括第二凹槽;下表面,所述下表面由位于所述下表面中央的平台状中央平台和以所述中央平台为中心,周期性排列的多个下表面周期结构,所述下表面周期结构由第三凹槽和第二凸起组成;所述上表面和所述下表面之间的厚度为50~150nm。
地址 100084北京市海淀区清华园北京100084-82信箱