发明名称 | 用于照射辐射敏感材料的装置和方法 | ||
摘要 | 用于照射辐射敏感材料的装置。该装置包括至少一个用于在其中含有热传递介质的导热箱,所述至少一个导热箱具有平行间隔关系的第一壁和第二壁,所述第二壁具有用于在其上放置辐射敏感材料的外表面。也公开了照射辐射敏感材料的系统和方法。 | ||
申请公布号 | CN101605563A | 申请公布日期 | 2009.12.16 |
申请号 | CN200780050984.2 | 申请日期 | 2007.12.10 |
申请人 | 伊西康公司 | 发明人 | M·C·塞勒;S·C·伊顿 |
分类号 | A61L2/08(2006.01)I | 主分类号 | A61L2/08(2006.01)I |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 李 进;韦欣华 |
主权项 | 1.一种照射辐射敏感材料的装置,所述装置包含:至少一个用于在其中含有热传递介质的导热箱,所述至少一个导热箱具有平行间隔关系的第一壁和第二壁,所述第二壁具有用于在其上放置辐射敏感材料的外表面。 | ||
地址 | 美国新泽西州 |