| 发明名称 | 含吡咯基团的化合物及其制备方法和用途 | ||
| 摘要 | 本发明公开了含有吡咯基团的化合物及其制备方法和用途。该化合物的结构通式为：（见右），其中，R为（见右）。本发明是从（见上）出发，通过Wittig反应、Vilsmeier反应和Knoevenagel缩合反应来构建共轭体系，再通过Suzuki反应在吡咯的N原子上引出不同的间隔基团三苯胺和咔唑，最终得到目标化合物。本发明的化合物具有良好的光电性能和光捕捉能力，其摩尔吸光系数值较大，可用作染料敏化剂，且制备方法的反应条件温和，产率较高。 | ||
| 申请公布号 | CN101602703A | 申请公布日期 | 2009.12.16 |
| 申请号 | CN200910063044.8 | 申请日期 | 2009.07.07 |
| 申请人 | 武汉大学 | 发明人 | 李振;李倩倩;时杰;卢兰兰;彭天右;秦金贵 |
| 分类号 | C07D207/337(2006.01)I;C07D403/10(2006.01)I;C09B57/00(2006.01)I | 主分类号 | C07D207/337(2006.01)I |
| 代理机构 | 武汉华旭知识产权事务所 | 代理人 | 刘 荣;周宗贵 |
| 主权项 | 1.含吡咯基团的化合物，其特征在于该化合物的结构通式为：<img file="A2009100630440002C1.GIF" wi="607" he="339" />其中，R为<img file="A2009100630440002C2.GIF" wi="575" he="232" /> | ||
| 地址 | 430072湖北省武汉市武昌珞珈山 | ||