发明名称 用于纳米规模制造的流体分配和按需液滴分配
摘要 本发明涉及将一个总体积的液体分配到基片之上的方法,所述方法包括:将多个相互间隔开的液滴设置在所述基片的一个区域上,各液滴具有与之相关的单位体积,所述区域中所述液滴的聚集体积随要在此区域形成的图案的体积而变化;等等。
申请公布号 CN100570445C 申请公布日期 2009.12.16
申请号 CN200580017951.9 申请日期 2005.06.02
申请人 分子制模股份有限公司 发明人 P·B·拉德;I·M·麦克麦基;V·N·柴斯盖特;N·E·苏马克;S·V·斯里尼瓦桑;D·沃斯;P·D·苏马克;E·B·弗莱彻
分类号 G02F1/1333(2006.01)I;B41J3/00(2006.01)I 主分类号 G02F1/1333(2006.01)I
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 代理人 陶家蓉
主权项 1.一种用于刻印平版印刷术的将一个总体积的液体分配到基片之上的方法,所述方法包括:将多个相互间隔开的刻印材料液滴设置在所述基片的多个区域上,各液滴具有与所述各区域相关的单位体积,所述区域中所述液滴的聚集体积随要在此区域形成的图案体积而变化,改变模具和所述基片之间的距离,将模具上的图案特征刻印到基片的可流动区域中,其特征在于,所述设置步骤包括:在没有图案特征的区域中设置所述液滴,所述液滴的聚集体积随要在所述区域上形成的残留层的厚度变化;在有图案特征的区域中,设置所述液滴,所述液滴的聚集体积随要在所述区域上形成的残留层的厚度和要在所述残留层上形成的图案的体积而变化。
地址 美国得克萨斯州