| 发明名称 | 高纯度偏磷酸铝及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种高纯度偏磷酸铝的制造方法，其特征在于，所述高纯度偏磷酸铝中杂质的各金属元素浓度在5ppm以下，该金属为铁、铬、镍、锰或铜中的至少一种，将氧化铝、氢氧化铝或碳酸铝，与磷酸酐和多磷酸混合所得混合物放入预先铺有偏磷酸铝粉末的烧结容器中进行烧结。 | ||
| 申请公布号 | CN100569635C | 申请公布日期 | 2009.12.16 |
| 申请号 | CN200710108995.3 | 申请日期 | 2004.03.09 |
| 申请人 | 日本化学工业株式会社 | 发明人 | 竹内宏介;畠透;小西俊介;高桥和宏 |
| 分类号 | C01B25/44(2006.01)I | 主分类号 | C01B25/44(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京尚诚知识产权代理有限公司 | 代理人 | 龙 淳 |
| 主权项 | 1.一种高纯度偏磷酸铝的制造方法，其特征在于，所述高纯度偏磷酸铝中杂质的各金属元素浓度在5ppm以下，该金属为铁、铬、镍、锰或铜中的至少一种，将氧化铝或氢氧化铝，与磷酸酐和多磷酸混合所得混合物放入预先铺有偏磷酸铝粉末的烧结容器中进行烧结。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||