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发明名称 PLASMA PROCESSING APPARATUS AND PLASMA PROCESSING METHOD
摘要
申请公布号 EP1632994(B1) 申请公布日期 2009.12.16
申请号 EP20040745450 申请日期 2004.05.31
申请人 TOKYO ELECTRON LIMITED 发明人 NOZAWA, TOSHIHISA;ISHIBASHI, KIYOTAKA;NAKANISHI, TOSHIO
分类号 H01L21/31;H01J37/32;H01L21/3065 主分类号 H01L21/31
代理机构 代理人
主权项
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