发明名称 电浆处理装置及电浆处理方法
摘要 本发明是提供可高精度地控制被处理基板的电压,故能施行高精度的电浆处理之电浆处理装置及电浆处理方法。从预先所准备之附有电压探针的被处理基板,将被处理基板的电压Vw测定出来后,从施加到静电夹头机构200之偏电压Vesc、及流通静电夹头机构200的之偏电流Iesc,以数字算出静电夹头机构200的作为电特性之阻抗,也就是算出电容成分Cesc。然后,利用欲予以测定的被处理基板102之偏电压Vesc、及流通静电夹头机构200之偏电流Iesc、及预先获取的该阻抗也就是电容成分Cesc的数值,用特定的计算式来推定被处理基板102的电压Vw。
申请公布号 TWI318425 申请公布日期 2009.12.11
申请号 TW095131153 申请日期 2006.08.24
申请人 日立全球先端科技股份有限公司 发明人 田村仁;安井尚辉;渡边成一
分类号 H01L21/3065 主分类号 H01L21/3065
代理机构 代理人 林志刚
主权项 一种电浆处理装置,是用以电浆处理被处理基板的电浆处理装置,其特征为:具备有:收容前述被处理基板之处理室;及具有静电性吸附前述被处理基板的静电夹头机构之基板电极;及对前述被处理基板供应电浆之电浆产生手段;及将偏电压供应到前述基板电极的前述被处理基板之偏电压施加手段;及使用载置在前述基板电极之测定用被处理基板,从前述测定用被处理基板测定电压波形,使用施加到前述静电夹头机构的偏电压波形,和流通前述静电夹头机构的偏电流波形,将所获取之前述静电夹头机构的阻抗值予以储存之阻抗值储存手段;使用供应给欲施予电浆处理的前述被处理基板之具有多数频率成分之非正弦波形之偏电压波形和具有多数频率成分之非正弦波形之偏电流波形,及前述静电夹头机构的前述所获取的阻抗值,藉由时间领域之模态式并以电压波形推定手段来推定欲施予电浆处理的前述被处理基板之具有多数频率成分之非正弦波形的电压波形。
地址 日本