Halogeniertes Polysilan und plasmachemisches Verfahren zu dessen Herstellung

摘要

Es werden ein halogeniertes Polysilan (im Folgenden Polysilan genannt) als reine Verbindung oder Gemisch von Verbindungen sowie ein plasmachemisches Verfahren zur Herstellung desselben beschrieben. Das Polysilan zeichnet sich durch charakteristische Verschiebungen in seinen 29Si-NMR-Spektren und durch typische Intensitätsverhältnisse der Banden in seinen Raman-Spektren aus. Das Polysilan (SinXy) weist im Unterschied zum Stand der Technik einen sehr geringen Wasserstoffgehalt auf (< 2%) und enthält nahezu keine niedermolekularen (n < 9) verzweigten Ketten. Bei dem Verfahren zur Herstellung des halogenierten Polysilans wird mit einem geringen Wasserstoffanteil und einer besonders niedrigen Energiedichte in Bezug auf die Plasmaentladung gearbeitet. Hierdurch lässt sich ein halogeniertes Polysilan herstellen, das besonders gut löslich ist.