| 主权项 |
1.一种光学模组之支撑机构,此支撑机构系安置于一机座之空间内,该机座在一预定位置设置有一纵向之支撑滑道,该机座之一顶面具一开口,此开口定义一周缘,此周缘承载一透明板,包括:一托架,供安置该光学模组;及一第一偏压元件,该第一偏压元件以可移动方式座于该支撑滑道上,此第一偏压元件分别提供一水平及垂直偏压力压迫前述托架,该水平偏压力使该托架在纵向行进时贴紧一纵向基准面,该垂直偏压力供于该托架在纵向行进时使光学模组随时与透明板之一底面保持约略固定之间隙。2.根据申请专利范围第1项之支撑机构,其中该纵向基准面为该机座上之一纵向之导引杆件,该托架包含一第一空间供容纳一滚轮组元件,光学模组托架在纵向行进时,前述水平偏压力使该滚轮组元件与该导引杆件成滚动接触状态。3.根据申请专利范围第1项之支撑机构,其中该支撑滑道之滑道平面为一斜面,该偏压元件系垂直于该斜面。4.根据申请专利范围第1项之支撑机构,其中该偏压元件包括一壳体、一支撑座、一弹性体、一滚轮,该支撑座系以可滑动方式于壳体内部滑行而构成一变动的壳体内部空间,该弹性体系容纳于该壳体内部空间内,而滚轮系以可转动方式与该支撑座固定,当托架进行纵向移动时,滚轮于支撑滑道上滚动,弹性体因应滑道的误差,自动使光学模组托架与该透明板保持一定间隙。5.根据申请专利范围第1项之支撑机构,其中该托架顶面近两端处分别设置有一导轮,当托架在纵向行进时,前述垂直偏压力该导轮与该玻璃板底面成滚动接触状态。6.根据申请专利范围第1项之支撑机构,其中该纵向基准面设置于该机座的一底面。7.根据申请专利范围第6项之支撑机构,其中该支撑滑道系与该机座一体成形。8.根据申请专利范围第1项之支撑机构,其中该光学模组托架更设置有一第二偏压元件以提供一第二垂直偏压力。9.根据申请专利范围第8项之支撑机构,其中该第二偏压元件包括一壳体、一支撑座、一弹性体、一滚轮,该支撑座系以可滑动方式于壳体内部滑行而构成一变动的壳体内部空间,该弹性体系容纳于该壳体内部空间内,而滚轮系以可转动方式与该支撑座固定,当托架进行纵向移动时,滚轮于一第二支撑滑道上滚动,弹性体因应第二支撑滑道的误差,自动使光学模组托架与该透明板保持一定间隙。10.一种光学模组之支撑机构,此支撑机构系安置于一机座空间内,在该机座内部设置有一纵向水平滑道、一纵向基准面与一垂直滑道,该机座设置一透明板,该支撑机构包括:一托架,供安置该光学模组;及一第一偏压元件,该第一偏压元件以可移动方式座于该水平滑道上,此第一偏压元件提供一垂直偏压力压迫前述托架,该托架在纵向行进时使光学模组托架与该透明板保持一定间隙;一第二偏压元件,该第二偏压元件以可移动方式座于该垂直滑道上,此第二偏压元件分别提供一水平偏压力压迫前述托架,使该托架在纵向行进时贴紧该纵向基准面。11.根据申请专利范围第10项之支撑机构,其中该第二偏压元件包括一壳体、一支撑座、一弹性体、一滚轮,该支撑座系以可滑动方式于壳体内部滑行而构成一变动的壳体内部空间,该弹性体系容纳于该壳体内部空间内,而滚轮系以可转动方式与该支撑座固定,当托架进行纵向移动时,滚轮于垂直滑道上滚动,因应该垂直滑道相对于该纵向基准面的误差,该第二偏压元件自动伸缩使托架贴紧该纵向基准面。12.根据申请专利范围第10项之支撑机构,其中该托架一顶面近两端处分别设置有导轮,当托架在纵向行进时,前述垂直偏压力使该导轮与该玻璃板底面成滚动接触状态。13.根据申请专利范围第10项之支撑机构,其中该纵向基准面为一纵向之导引杆件,且该托架包含一第一空间供容纳一滚轮组元件,当托架在纵向行进时,前述水平偏压力使该滚轮组元件与该导引杆件成滚动接触状态。14.根据申请专利范围第10项之支撑机构,其中该垂直滑道为该机座之一内侧面。15.根据申请专利范围第13项之支撑机构,其中该水平滑道与该机座一体成形。图式简单说明:第一图显示本创作中光学模组托架20.纵向基准元件15.纵向支撑滑道11相互关系之上视图。第二图为第一图中沿2-2剖面线之剖面图。第三图揭露习知平台式扫瞄器之光学模组、导杆与驱动元件。第四图揭露本创作第二实施例。第五图揭露本创作第三实施例。 |
