发明名称 增强过程和轮廓模拟器的算法
摘要 一种增强过程和轮廓模拟器算法的方法,其可预测一个特定等离子过程将生成的表面轮廓。首先,高能粒子被跟踪,然后,这种高能粒子产生的离子通量被记录下来。根据同时求解的中性通量、表面化学覆盖和表面材料类型便可计算出局部刻蚀速率和局部堆积速率。
申请公布号 CN100565788C 申请公布日期 2009.12.02
申请号 CN200510098821.4 申请日期 2005.09.01
申请人 LAM研究有限公司 发明人 戴维·克奥波;维诃迪·维迪
分类号 H01L21/00(2006.01)I;H01L21/3065(2006.01)I;H01L21/311(2006.01)I;H01L21/3213(2006.01)I;H05H1/00(2006.01)I;G06F17/50(2006.01)I 主分类号 H01L21/00(2006.01)I
代理机构 北京康信知识产权代理有限责任公司 代理人 余 刚
主权项 1.一种等离子室,特征在于,其包括:一个室;一个第一电源;一个第二电源;一个供气排气装置;一个置于所述室顶部的电感器,该电感器与所述的第一电源耦联;一个位于所述室内部的电极,该电极与所述的第二电源耦联;一个与所述第一电源耦联的第一电源控制器;一个与所述第二电源耦联的第二电源控制器;一个与所述供气排气装置耦联的压力控制器;和一个与所述第一电源控制器、所述第二电源控制器和所述压力控制器耦联的计算机;其中,所述计算机预测性地计算出等离子过程顺序将在基底上生成的表面轮廓;所述计算机跟踪高能粒子;所述计算机记录所述高能粒子的离子通量多重性;所述计算机同时为中性通量多重性、表面化学覆盖和表面材料类型求解,和所述计算机根据所述离子通量多重性、所述中性通量多重性、所述表面化学覆盖和所述表面材料类型计算出局部刻蚀速率和局部堆积速率。
地址 美国加利福尼亚洲