发明名称 |
降低天线效应的光刻方法 |
摘要 |
本发明公开了一种降低天线效应的光刻方法,其用于光刻晶圆的绝缘介质层。所述光刻方法包括在所述绝缘介质层上涂光阻;进行曝光步骤以及显影步骤;所述显影步骤包括清洗所述绝缘介质层表面的清洗子步骤,在所述清洗子步骤中,晶圆的旋转速度小于等于2000转每分钟。与现有技术相比,本发明提供晶圆的光刻方法,通过在显影步骤的清洗子步骤中减小晶圆的转速,减少了天线效应对晶圆的损害,有效提高了晶圆的良率。 |
申请公布号 |
CN101592874A |
申请公布日期 |
2009.12.02 |
申请号 |
CN200810038390.6 |
申请日期 |
2008.05.30 |
申请人 |
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
发明人 |
靳颖;张凯元 |
分类号 |
G03F7/36(2006.01)I;G03F7/40(2006.01)I;G03F7/26(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/36(2006.01)I |
代理机构 |
上海思微知识产权代理事务所 |
代理人 |
屈 蘅;李时云 |
主权项 |
1.一种降低天线效应的光刻方法,其用于光刻晶圆的绝缘介质层,所述光刻方法包括:在所述绝缘介质层上涂光阻;进行曝光步骤以及显影步骤;其特征在于,所述显影步骤包括清洗所述绝缘介质层的清洗子步骤,在所述清洗子步骤中,晶圆的旋转速度小于等于2000转每分钟。 |
地址 |
201203上海市张江路18号 |