发明名称 氧化铟-氧化锌-氧化镁类溅射靶及透明导电膜
摘要 本发明提供一种在溅射时不会产生节结的靶。另外,还提供蚀刻性优良并且特别是在400~450nm区域的透明性方面优良的非晶态透明导电膜。是含有氧化铟、氧化锌、氧化镁的溅射靶,该溅射靶在溅射时不会产生节结。另外,是含有氧化铟、氧化锌、氧化镁的非晶态透明导电膜,该非晶态透明导电膜在蚀刻性方面优良,并且400~450nm区域的光线透过率高。
申请公布号 CN100564579C 申请公布日期 2009.12.02
申请号 CN200580009752.3 申请日期 2005.02.23
申请人 出光兴产株式会社 发明人 井上一吉;松原雅人;笘井重和;岛根幸朗
分类号 C23C14/34(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I;G02F1/1343(2006.01)I;H01L21/285(2006.01)I;H01L21/70(2006.01)I 主分类号 C23C14/34(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 朱 丹
主权项 1.一种溅射靶,其特征是,含有由氧化铟及氧化锌构成的以通式In2O3(ZnO)m表示的六方晶层状化合物、和由氧化铟和氧化镁构成的In2MgO4,这里,m为3~20的整数,并且[In]/([In]+[Zn]+[Mg])=0.74~0.94,[Zn]/([In]+[Zn]+[Mg])=0.05~0.25,[Mg]/([In]+[Zn]+[Mg])=0.01~0.20,[In]表示单位体积中的铟原子的数目,[Zn]表示单位体积中的锌原子的数目,[Mg]表示单位体积中的镁原子的数目。
地址 日本国东京都