发明名称 |
衬底处理系统和衬底处理方法 |
摘要 |
一种衬底处理系统,配置有通过对含氧气体放电而产生含臭氧气体的臭氧发生器,以及多个都能够在其中容纳衬底以通过供应的含臭氧气体处理衬底的处理容器。流量调节器控制供给臭氧发生器的含氧气体。控制器控制流量调节器,从而通过控制供给臭氧发生器的含氧气体的流速来控制来自臭氧发生器并供给一个或多个处理容器的含臭氧气体的流速。 |
申请公布号 |
CN100565350C |
申请公布日期 |
2009.12.02 |
申请号 |
CN200710084416.6 |
申请日期 |
2003.06.26 |
申请人 |
东京毅力科创株式会社 |
发明人 |
长野泰博;伊藤规宏 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I;G03F7/42(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I;H01L23/00(2006.01)I;C01B13/10(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
温大鹏;谭祐祥 |
主权项 |
1.一种衬底处理系统,包括:多个第一气体通路;多个臭氧发生器,每个臭氧发生器都放入每个第一气体通路中,每个臭氧发生器都配有电极,并通过电极对来自每个第一气体通路上游侧并且供给每个臭氧发生器的含氧气体进行放电而产生含臭氧气体,从而向每个第一气体通路下游侧排出含臭氧气体;第二气体通路,与第一气体通路相连;多个处理容器,每个处理容器都适于利用臭氧发生器产生的含臭氧气体处理在其中的衬底;多个第三气体通路,从第二气体通路分支,并分别与处理容器相连,从而将含臭氧气体供给处理容器;以及控制器,设置成用于确定处理容器在处理过程中对含臭氧气体的需求量,并设置成用于将至少一个臭氧发生器控制在所述至少一个臭氧发生器处于产生含臭氧气体的第一状态或所述至少一个臭氧发生器处于停止产生含臭氧气体第二状态的状态,使得来自臭氧发生器并朝向第一气体通路下游侧排出的流速与臭氧气体需求量一致。 |
地址 |
日本东京都 |