Optisches Element für photolithographie und Verfahren zur Auswertung eines optischen Elements,申请号DE1995611781-传众专利搜索

发明名称	Optisches Element für photolithographie und Verfahren zur Auswertung eines optischen Elements
摘要
申请公布号	DE69511781(D1)	申请公布日期	1999.10.07
申请号	DE1995611781	申请日期	1995.06.14
申请人	NIKON CORP., TOKIO/TOKYO	发明人	HIRAIWA, HIROYUKI;TANAKA, ISSEY;MIYOSHI, KATSUYA
分类号	G01M11/00;G03F7/20;(IPC1-7):G01M11/02	主分类号	G01M11/00
代理机构		代理人
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