发明名称 一种MgZnO紫外光电探测器的制备方法
摘要 本发明属于半导体光电技术领域,涉及一种MgZnO紫外光电探测器的制备方法,通过交流磁控溅射制备不同带隙宽度(3.37~4.13eV)的高质量MgZnO合金薄膜,并在此基础上通过真空热蒸发和湿法刻蚀的方法制备MSM结构电极的MgZnO紫外光电探测器。采用本发明制备的MgZnO紫外光电探测器具备高的紫外可见比和较低的暗电流等优点,适用于太阳紫外线辐射监控、火焰探测、导弹预警等。
申请公布号 CN100565940C 申请公布日期 2009.12.02
申请号 CN200810050587.1 申请日期 2008.04.10
申请人 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 发明人 蒋大勇;张吉英;申德振;姚斌;赵东旭;张振中
分类号 H01L31/18(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I 主分类号 H01L31/18(2006.01)I
代理机构 长春菁华专利商标代理事务所 代理人 王淑秋
主权项 1、一种MgZnO紫外光电探测器的制备方法,其特征在于包括下列步骤:a.使用交流磁控溅射台,在衬底温度为300~600℃条件下,对Mg摩尔浓度为5%~40%的MgZnO合金靶进行溅射,制备出MgZnO合金薄膜;b.通过真空热蒸发的方法,在已制备的MgZnO合金薄膜上蒸镀Au膜。c.制备金属-半导体-金属结构的电极。
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