发明名称 |
一种MgZnO紫外光电探测器的制备方法 |
摘要 |
本发明属于半导体光电技术领域,涉及一种MgZnO紫外光电探测器的制备方法,通过交流磁控溅射制备不同带隙宽度(3.37~4.13eV)的高质量MgZnO合金薄膜,并在此基础上通过真空热蒸发和湿法刻蚀的方法制备MSM结构电极的MgZnO紫外光电探测器。采用本发明制备的MgZnO紫外光电探测器具备高的紫外可见比和较低的暗电流等优点,适用于太阳紫外线辐射监控、火焰探测、导弹预警等。 |
申请公布号 |
CN100565940C |
申请公布日期 |
2009.12.02 |
申请号 |
CN200810050587.1 |
申请日期 |
2008.04.10 |
申请人 |
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
发明人 |
蒋大勇;张吉英;申德振;姚斌;赵东旭;张振中 |
分类号 |
H01L31/18(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I |
主分类号 |
H01L31/18(2006.01)I |
代理机构 |
长春菁华专利商标代理事务所 |
代理人 |
王淑秋 |
主权项 |
1、一种MgZnO紫外光电探测器的制备方法,其特征在于包括下列步骤:a.使用交流磁控溅射台,在衬底温度为300~600℃条件下,对Mg摩尔浓度为5%~40%的MgZnO合金靶进行溅射,制备出MgZnO合金薄膜;b.通过真空热蒸发的方法,在已制备的MgZnO合金薄膜上蒸镀Au膜。c.制备金属-半导体-金属结构的电极。 |
地址 |
130033吉林省长春市东南湖大路16号 |