涂敷、显影装置及其方法

摘要

本发明提供一种涂敷、显影装置及其方法，通过层叠而设置抗蚀剂膜形成用单位块、和反射防止膜形成用单位块，在抗蚀剂膜上下形成反射防止膜时，实现空间节省化。再者，不管是不是在形成反射防止膜的情况下，都可以应对，可以实现这时软件的简易化。在处理块(S2)上，相互层叠而设置作为涂敷膜形成用单位块的TCT层(B3)、COT层(B4)、BCT层(B5)和作为显影处理用的单位块的DEV层(B1、B2)。不管是不是在形成反射防止膜的情况下，通过在TCT层(B3)、COT层(B4)、BCT层(B5)内选择使用的单位块都可以应对，可以抑制这时的运送程序的复杂化，并实现软件的简易化。

主权项

1.一种涂敷、显影装置，把由承载体运入承载块中的基板交接至处理块，在该处理块中形成包含抗蚀剂膜的涂敷膜后，经由接口块运送至曝光装置，经由上述接口块返回来的曝光后的基板在上述处理块中进行显影处理并交接至上述承载块，其特征在于，(a)上述处理块，具备相互层叠的多个涂敷膜形成用的单位块、和相对于上述涂敷膜形成用的单位块层叠的显影处理用的单位块，(b)上述相互层叠的多个涂敷膜形成用的单位块分别为用于在基板上涂敷抗蚀剂液的单位块、和用于在基板上涂敷反射防止膜用药液的单位块，(c)上述各单位块具备用于将药液涂敷在基板上的液体处理组件；加热基板的加热组件；和在这些组件之间运送基板的单位块用运送机构。