发明名称 <sup>68</sup>Ge密封放射源的制备方法
摘要 本发明公开了一种<sup>68</sup>Ge密封放射源的制备方法,由如下步骤组成:在反应容器内,放入粒径为50~400目的二氧化硅0.2-50g为吸附剂,加入浓度为8~15mol/L的硫酸水溶液1-50mL,放射性浓度为0.1-100mCi/mL的<sup>68</sup>Ge水溶液0.1-10mL,浓度为0.1~50g/L载体锗的水溶液0~15mL,在常压下,搅拌或振荡反应10~120分钟,取出上清液,将沉淀清洗晾干,装入不锈钢管内,两端焊封,将密封的不锈钢管设置在套管内再装配在底座上,即制成一种和降低了放射性废物处理的成本。
申请公布号 CN101593567A 申请公布日期 2009.12.02
申请号 CN200910069323.5 申请日期 2009.06.18
申请人 天津赛德生物制药有限公司 发明人 阎尔坤
分类号 G21G4/08(2006.01)I;A61B6/02(2006.01)I 主分类号 G21G4/08(2006.01)I
代理机构 天津市北洋有限责任专利代理事务所 代理人 陆 艺
主权项 1.68Ge密封放射源的制备方法,其特征是由如下步骤组成:在反应容器内,放入粒径为50~400目的二氧化硅0.2-50g为吸附剂,加入浓度为8~15mol/L的硫酸水溶液1-50mL,放射性浓度为0.1-100mCi/mL的68Ge水溶液0.1-10mL,浓度为0.1~50g/L载体锗的水溶液0~15mL,在常压下,搅拌或振荡反应10~120分钟,取出上清液,将沉淀清洗晾干,装入不锈钢管内,两端焊封,将密封的不锈钢管设置在套管内再装配在底座上,即制成一种68Ge密封放射源。
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