发明名称 处理无卤素铜箔基板材料的树脂组合物
摘要 本发明是提供一种处理无卤素铜箔基板材料的树脂组合物,其包含含氮环的树脂材料与含磷环氧树脂材料,并添加适当的无机阻燃填充剂来使基板材料能通过UL 94V-0的耐燃性测试,并使耐热性、基板的尺寸稳定性、Z-轴膨胀系数都较一般含卤素的铜箔基板材料佳者,且又可通过抗玻纤漏电(Anti-CAF)测试以及无铅焊锡工艺,均达到标准。
申请公布号 CN101591471A 申请公布日期 2009.12.02
申请号 CN200810100133.0 申请日期 2008.05.26
申请人 台燿科技股份有限公司 发明人 陈宪德;庄惠君;范晋国;汪慰萱
分类号 C08L79/02(2006.01)I;C08L63/00(2006.01)I;C08K13/02(2006.01)I;C08K3/32(2006.01)I;C08K3/22(2006.01)I;C08K5/54(2006.01)I;H05K1/03(2006.01)I 主分类号 C08L79/02(2006.01)I
代理机构 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 代理人 孙皓晨;费碧华
主权项 1.一种处理无卤素铜箔基板材料的树脂组合物,其组成至少包含:含氮环的树脂:具良好耐热以及抗泡性,使用含氮量为5~50%,分子量为500~10000,使用量为100份;不含卤素的聚氨酯类环氧树脂:不含卤素的聚氨酯类环氧树脂为Isocyanate modified Epoxy;含磷环氧树脂:在高温时生成阻燃层以迟缓燃烧,磷含量为1~20%,环氧当量为200~1000,水解氯含量为小于500ppm,使用量为20~70份;硬化剂:与所述的环氧化合物进行聚合硬化反应,使用的硬化剂为氨类硬化剂(amine),其分子量为80~1000,分子结构中至少含有1个活性氢反应基,其使用量为2~30份;催化剂:降低反应温度,使用的催化剂为杂环胺类,使用量为0.01~1.0份;无机阻燃填充物:加强基板材料的阻燃性;分散剂:使所述的无机添加物在所述的环氧树脂中分散均匀,使用量为01~5.0份;稀释剂:可使用丙酮(Acetone),甲乙酮(MEK),环己酮(cyclohexanol),1-甲氧基-2-丙醇(PM),乙酸1-甲氧基-2-丙醇酯(PMA)。
地址 台湾省新竹县