| 发明名称 | 在电荷擦除光学曝光工具中去除吸波长的气体的方法 | ||
| 摘要 | 一种用于通过光学手段减少集成电路中的电荷累积的过程包括将所述集成电路或者其中部分暴露在宽带辐射源下。该过程有效地减少了在制造集成电路中产生的电荷累积。 | ||
| 申请公布号 | CN100565807C | 申请公布日期 | 2009.12.02 |
| 申请号 | CN200710128771.9 | 申请日期 | 2002.12.02 |
| 申请人 | 艾克塞利斯技术公司 | 发明人 | A·亚诺斯;I·贝里;A·辛诺特;K·斯图尔特 |
| 分类号 | H01L21/268(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/268(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 王 岳;王忠忠 |
| 主权项 | 1.一种用于在电荷擦除光学曝光工具中去除吸收180nm到200nm的波长的气体的方法，其中该光学曝光工具包括与处理室进行光通信的辐射源室，该方法包括：使用惰性气体来净化该辐射源室，所述惰性气体对于被周围预先净化的气体吸收的波长来说是透明的；以及使用惰性气体来净化该处理室，所述惰性气体对于180nm到200nm的波长来说是透明的。 | ||
| 地址 | 美国马萨诸塞州 | ||