发明名称 | 一种母线槽装置 | ||
摘要 | 本发明提供一种母线槽装置,包括:导体、以及与所述导体相连的地线,其特征在于:所述导体的连接部位设置有包括铜层和铝层的连接片,所述铜层的接触部位为铜导体,所述铝层的接触部位为铝导体。本发明不仅消除了电化腐蚀,提高了导电效能和可靠性,而且制造简便,大大降低了成本。 | ||
申请公布号 | CN101593952A | 申请公布日期 | 2009.12.02 |
申请号 | CN200810110741.X | 申请日期 | 2008.05.28 |
申请人 | 施耐德电气(中国)投资有限公司 | 发明人 | 陶运喜;杜甫;冯成华;宋显凤;曾伟清;王署斌;付凯 |
分类号 | H02G5/00(2006.01)I;H02G5/08(2006.01)I;H01R4/62(2006.01)I | 主分类号 | H02G5/00(2006.01)I |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 马 浩 |
主权项 | 1.一种母线槽装置,包括:导体、以及与所述导体相连的地线,其特征在于:所述导体的连接部位设置有包括铜层和铝层的连接片,所述铜层的接触部位为铜导体,所述铝层的接触部位为铝导体。 | ||
地址 | 100016北京市朝阳区将台路二号 |