| 发明名称 | 含水物质的处理方法 | ||
| 摘要 | 本发明的目的在于提供可高效地处理含水物质并在处理后能作为资源实现再利用的手段。即，本发明提供含水物质的处理方法以及含水物质的处理装置，所述方法的特征在于，包括下述工序：(A)使常温常压的条件下呈气体的物质作为液体与含水物质接触的接触工序；(B)获得液体层的对所述(A)工序后的处理物进行固液分离的固液分离工序；(C)从通过所述(B)工序得到的液体层，作为气体提取所述常温常压的条件下呈气体的物质的至少一部分的气化提取工序；(D)对所述(C)工序后的液体层进行液液分离，采取下层的液液分离工序。 | ||
| 申请公布号 | CN101594920A | 申请公布日期 | 2009.12.02 |
| 申请号 | CN200880003265.X | 申请日期 | 2008.01.30 |
| 申请人 | 财团法人电力中央研究所;月岛机械株式会社 | 发明人 | 神田英辉;牧野尚夫;森田真由美;竹上敬三;吉越昭雄;高桥正纯 |
| 分类号 | B01D12/00(2006.01)I;B09C1/08(2006.01)I;B01D5/00(2006.01)I;C02F11/00(2006.01)I;B09B3/00(2006.01)I;C02F11/12(2006.01)I;B09C1/02(2006.01)I | 主分类号 | B01D12/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 冯 雅;胡 烨 |
| 主权项 | 1.含水物质的处理方法，其特征在于，包括下述工序：(A)使常温常压的条件下呈气体的物质作为液体与含水物质接触的接触工序；(B)获得液体层的对所述(A)工序后的处理物进行固液分离的固液分离工序；(C)从通过所述(B)工序得到的液体层，作为气体提取所述常温常压的条件下呈气体的物质的至少一部分的气化提取工序；(D)对所述(C)工序后的液体层进行液液分离，采取下层的液液分离工序。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||