真空处理装置

摘要

一种真空处理装置，用于液晶显示面板的基板如玻璃基板上、或半导体晶圆上进行蚀刻制程或沉积制程，此真空处理装置包含可活动地连接以形成真空处理空间的顶部腔室和底部腔室；分别安装在底部腔室的各个侧面的一对底部水平移动单元；位于各个底部水平移动单元上方的一对顶部水平移动单元，分别与顶部腔室旋转连接，用于使顶部腔室在水平方向与底部腔室分离；及安装在底部水平移动单元上并由其支撑的提升单元，其透过提升或降低顶部水平移动单元以分离或连接顶部腔室和底部腔室。

主权项

一种真空处理装置，包含有：一顶部腔室和一底部腔室，该顶部腔室和该底部腔室可活动地连接以形成一真空处理空间；一对底部水平移动单元，分别安装在该底部腔室的各个侧面；一对顶部水平移动单元，位于各个该底部水平移动单元上方，并分别与该顶部腔室旋转连接，用于使该顶部腔室在一水平方向与该底部腔室分离；及一提升单元，安装在该底部水平移动单元上并由该底部水平移动单元支撑，透过提升或降低该顶部水平移动单元以分离或连接该顶部腔室和该底部腔室。