研磨液组合物

摘要

本发明系提供一种研磨液组合物，其系包含水及氧化矽粒子、用于记忆体硬碟用基板者。其中上述氧化矽粒子为将自小粒径侧起之累积体积频率(%)对以穿透式电子显微镜(TEM)观测而得该氧化矽粒子之粒径(nm)作图所得该氧化矽粒子之粒径对累积体积频率图中，于粒径40~100nm范围内累积体积频率(V)相对于粒径(R)满足下式(1)之研磨液组合物； V≧0.5×R+40　(1)。 本发明之研磨液组合物特别适用于制造记忆体硬碟用基板等精密部件用基板。

主权项

一种研磨液组合物，其系包含水、氧化剂、酸及/或其盐及氧化矽粒子，且用于记忆体硬碟用基板者，上述酸及/或其盐系自无机酸、有机膦酸及其等与1A族所属金属或铵之盐所选之化合物，上述氧化矽粒子为将自小粒径侧起之累积体积频率(%)对以穿透式电子显微镜(TEM)观测而得该氧化矽粒子之粒径(nm)作图所得该氧化矽粒子之粒径对累积体积频率图中，于粒径40~45nm范围之累积体积频率(V)相对于粒径(R)满足下式(5)：